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銘牌制作蝕刻加工過程中的精度和側(cè)蝕問題介紹 發(fā)表時(shí)間:2020-11-03

  在銘牌制作蝕刻加工的工藝中,除不經(jīng)任何防蝕處理的整體蝕刻方法外,都必須要注意防蝕層下蝕刻的“蔓延”問題,也就是我們常說的側(cè)腐蝕。側(cè)腐蝕的大小直接關(guān)系到圖文的精度和蝕刻線條的極限尺寸。通常把防蝕層下的水平方向的蝕刻寬度A稱為側(cè)蝕量,側(cè)蝕量A與蝕刻深度H的比值就是側(cè)蝕率F:

  蝕刻的精度和側(cè)蝕問題介紹

  F=A/H式中:A為側(cè)蝕刻量(mm),H為蝕刻深度(mm);F為側(cè)蝕刻率或腐蝕因素,用以表示不同條件下側(cè)蝕刻量與蝕刻深度之間的關(guān)系。

  以上有關(guān)圓弧R的大小受蝕刻深度,被蝕刻窗口的最小寬度與蝕刻深度的比值、蝕刻液的組成、蝕刻方法及材料種類等的影響較大。側(cè)蝕刻的量決定了化學(xué)蝕刻的精度,側(cè)蝕量越小,加工的精度越高,適用的范圍就越寬,反之,加工的精度低,適用范圍小。

  側(cè)蝕量的大小主要受金屬材料的影響,在常用的幾種金屬材料中,以銅的側(cè)蝕量最小,鋁的側(cè)蝕量最大。選擇更為優(yōu)越的蝕刻劑,雖然蝕刻的速度提高并不明顯,但的確可改善金屬銘牌蝕刻加工的側(cè)蝕量。

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